الیکٹرک وہیکل کا پی ایم سنٹرڈ پارٹ

مصنوعات کا تعارف

مصنوعات کے فوائد

تیاری

1. درجہ حرارت سے پروگرام شدہ گیس کے ٹھوس رد عمل کا طریقہ: ٹنگسٹک ایسڈ کو ٹنگسٹن کے پیش خیمہ کے طور پر، میتھین کو کاربن کے منبع کے طور پر استعمال کرنا اور گیس کو کم کرنا، الٹرا فائن ٹنگسٹن کاربائیڈ پاؤڈر تیار کیا گیا۔ ان میں، درجہ حرارت کے پروگرام شدہ کاربنائزیشن کے طریقہ کار میں، حرارتی پروگرام 30 منٹ کے اندر درجہ حرارت کو 500 ڈگری تک بڑھانا ہے، حرارت کی شرح 18 ڈگری · منٹ-1 ہے، اور پھر 500 ڈگری سے 800 ڈگری تک بڑھنا ہے۔ 20 منٹ، اور حرارت کی شرح 10 ڈگری · منٹ-1 ہے، 12 گھنٹے کے لیے مقررہ درجہ حرارت پر رد عمل ظاہر کیا گیا، اور قدرتی طور پر میتھین کے تحفظ کے تحت کمرے کے درجہ حرارت پر گرا دیا گیا۔

2. تخفیف کاربنائزیشن دو قدمی طریقہ: پہلے ٹنگسٹن پر مشتمل پیشگی سے W پاؤڈر تیار کریں، اور پھر WC پاؤڈر بنانے کے لیے کاربن پر مشتمل مادوں سے کاربنائز کریں۔ جدول 3 - کم کاربنائزیشن دو قدمی طریقہ سے الٹرا فائن ڈبلیو سی پاؤڈر کی تیاری کا طریقہ

3. تخفیف کاربنائزیشن ایک قدمی طریقہ: یعنی ٹنگسٹن (جیسے WO3) پر مشتمل پیشرو کو براہ راست کم کیا جاتا ہے اور WC پاؤڈر بنانے کے لیے کاربنائز کیا جاتا ہے۔ اس طریقہ کار کے لیے عام طور پر انتہائی فعال ٹنگسٹن پیشگی تیاری کی ضرورت ہوتی ہے۔ براہ راست کمی کاربونائزیشن کا مسلسل عمل عمل کے بہاؤ کو مختصر کر سکتا ہے، الٹرا فائن ٹنگسٹن کاربائیڈ پاؤڈر جنریشن کی کارکردگی کو بہتر بنا سکتا ہے، اور ساتھ ہی، حاصل شدہ الٹرا فائن ٹنگسٹن کاربائیڈ اور اس کے الائے پاؤڈر میں بہتر یکسانیت اور چھوٹے ذرات کا سائز ہے۔ ٹیبل 4 - الٹرا فائن ڈبلیو سی پاؤڈر کی تیاری کا طریقہ ایک قدمی کمی کاربنائزیشن کے ذریعے

4. 30 فیصد H2O2 کے مکسچر میں 0.3g ٹنگسٹن پاؤڈر شامل کریں، آئسوپروپینول اور پانی کو وقفے وقفے سے مائکروویو ہیٹنگ کے ذریعے رات بھر، 0.7gXC-72 کاربن پاؤڈر شامل کریں، الٹراسونک علاج کیا جا سکتا ہے ایک یکساں مرکب مائع، خشک، وقفے وقفے سے طریقے استعمال کرتے ہوئے ٹنگسٹن کاربائیڈ نانو کرسٹلز کو مائکروویو اوون میں چند منٹوں کے لیے گرم کرکے حاصل کیا جا سکتا ہے۔

5. گیس کے مرحلے کا طریقہ:

(1) کیمیائی بخارات جمع کرنے کا طریقہ: پلازما بڑھا ہوا کیمیائی بخارات جمع کرنے کا سامان استعمال کیا جاتا ہے، ٹنگسٹن فلورائیڈ (WF6)، میتھین (CH4) اور ہائیڈروجن (H2) کو خام مال کی گیسوں کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے، اور argon (Ar) کو کیریئر گیس کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے۔ بہاؤ کی شرح کو الگ فلو میٹر کے ذریعے کنٹرول کیا جاتا ہے۔ سبسٹریٹ دھاتی نکل شیٹ سے بنا ہے۔ سبسٹریٹس کو الٹراسونک طور پر ایسیٹون، ڈیونائزڈ واٹر، ایتھنول اور ڈیونائزڈ پانی سے صاف کیا جاتا ہے اور خشک ہونے کے بعد ری ایکشن چیمبر میں ڈال دیا جاتا ہے۔ کیمیائی بخارات کے جمع ہونے سے پہلے، 100mL ہائیڈروجن گیس کو 30 منٹ کے لیے گرم ماحول میں گزارا جاتا تھا تاکہ سبسٹریٹ کی سطح پر موجود آکسائیڈز کو ہٹایا جا سکے۔ کیمیائی بخارات کے جمع ہونے کے بعد نمونے نائٹروجن میں بھٹی میں بند کیے گئے تھے۔ ٹنگسٹن فلورائیڈ اور میتھین کو پیشگی کے طور پر استعمال کرتے ہوئے، ایک کروی نینو ٹنگسٹن کاربائیڈ فلم جس کا قطر 20-35nm تھا، پلازما سے بڑھے ہوئے کیمیائی بخارات کے ذخیرہ سے تیار کیا گیا تھا۔

(2) فکسڈ بیڈ کیمیائی بخارات کے مرحلے کا طریقہ: مناسب مقدار میں نینو-WO3 پاؤڈر کا وزن کریں، اسے کوارٹج ری ایکشن بوٹ میں یکساں طور پر رکھیں، اور کوارٹج ری ایکشن بوٹ کو ایک اعلی درجہ حرارت والے سٹینلیس سٹیل ٹیوبلر ری ایکٹر (ψ90cm) میں رکھیں، اور پھر ایک نلی نما مزاحمتی بھٹی میں رکھے گئے سٹینلیس سٹیل پر رد عمل ظاہر کریں۔ درجہ حرارت 540 ڈگری سے 660 ڈگری تک بڑھ جاتا ہے، اور یہ H2 نینو-WO3 کو کم کرنے کا مرحلہ ہے۔ جب گرمی کے تحفظ کے مرحلے میں درجہ حرارت آہستہ آہستہ 660 ڈگری تک بڑھ جاتا ہے، تو H2 بہاؤ کی شرح کو بڑھانے کے لیے ایڈجسٹ کیا جانا چاہیے۔ H2 بہاؤ کی شرح میں اضافہ پانی کے بخارات کو دور کرنے اور رد عمل کے عمل کو آسانی سے آگے بڑھانے کے لیے فائدہ مند ہے۔ رد عمل کو 1.5 گھنٹے تک 660 ڈگری پر رکھنے کے بعد، کوارٹج ری ایکشن بوٹ میں نینو-WO3 پاؤڈر مکمل طور پر نینو- -W پاؤڈر تک کم ہو گیا۔ اس وقت، H2 بہاؤ کم ہو جاتا ہے، ایسٹیلین گیس والو کھولا جاتا ہے، ایسٹیلین کے بہاؤ کو کنٹرول کیا جاتا ہے، اور رد عمل کاربنائزیشن کے مرحلے میں داخل ہوتا ہے۔ درجہ حرارت کو 800 ڈگری تک بڑھائیں اور اسے 4 گھنٹے کے لئے 800 ڈگری پر رکھیں۔ کاربنائزیشن کا عمل ختم ہونے کے بعد، کوارٹج ری ایکشن بوٹ میں نینو- -W پاؤڈر بنیادی طور پر نینو-WC پاؤڈر میں تبدیل ہو جاتا ہے۔ اس وقت، acetylene والو بند ہے اور H2 بہاؤ کی شرح کم ہے. جب تک سٹینلیس سٹیل کے ری ایکٹر کو کمرے کے درجہ حرارت پر ٹھنڈا نہ کر دیا جائے تب تک اعلیٰ پاکیزگی H2 کی ٹریس مقدار کو مسلسل کھلائیں۔

(3) کیمیائی بخارات کی گاڑھائی کا طریقہ: اعلیٰ پاکیزہ CO کیریئر گیس کو بخارات کے ذریعے سے گزریں جس میں W(CO)6 پیشگی ہے، کیریئر گیس کے بہاؤ کی شرح 1200mL/min ہے، بخارات کا درجہ حرارت 120 ڈگری پر کنٹرول کیا جاتا ہے، اور پھر کیریئر گیس نلی نما ری ایکٹر میں 600 ~ 800 ڈگری درجہ حرارت کی حد میں پیشگی بخارات لے جاتی ہے، CO گیس CO2 اور C میں گل جاتی ہے، اور W اور C تقریباً 1000 ڈگری پر مل کر نینو ٹنگسٹن کاربائیڈ بناتی ہے، اور آخر کار ڈبلیو سی کو کلیکشن چیمبر میں حاصل کیا جا سکتا ہے۔

(4) گیس فیز کاربنائزیشن کا طریقہ: WO3 کو خام مال کے طور پر اور میتھانول کو کاربن ماخذ کے طور پر استعمال کریں۔ Co/Fe اتپریرک کے عمل کے تحت، nanoscale WC 15-4 گھنٹے کے لیے 450-950 ڈگری کے درجہ حرارت پر رد عمل ظاہر کر کے حاصل کیا جا سکتا ہے۔ میتھانول کی کم درجہ حرارت کیٹلیٹک کریکنگ کو اپنایا جاتا ہے، اور میتھانول مائع پمپ فلو میٹر کے ذریعے پری ہیٹنگ پائپ میں داخل ہوتا ہے، اور پری ہیٹنگ پائپ کا درجہ حرارت 300-420 ڈگری پر کنٹرول کیا جاتا ہے۔ میتھانول کو پہلے سے گرم اور بخارات بنانے کے بعد، اسے کیٹلیٹک کریکر کو بھیجا جاتا ہے، اور میتھانول گیس کو 420-550 ڈگری پر کریک کیا جا سکتا ہے تاکہ مطلوبہ رد عمل کا ماحول CO اور H2 حاصل کیا جا سکے۔ CO اور H2 نینو WO3 پاؤڈر کے ساتھ 1۔{13}} گھنٹے کے لیے آکسیجن ایٹموں کو ہٹانے، نینو-WC بنانے کے لیے رد عمل ظاہر کرتے ہیں۔

6. مائع مرحلے کا طریقہ:

سوراخوں کے ساتھ خالص کثیر دیواروں والے کاربن نانوٹوبس لیں (اوسط اندرونی قطر 50nm، بیرونی قطر 100nm، لمبائی تقریباً 200μm)، 20mL امونیم پیراٹنگ سٹیٹ پینٹا ہائیڈریٹ محلول میں ڈبو دیں 20 منٹ کے بعد، نتیجے میں حل کمرے کے درجہ حرارت پر قدرتی طور پر بخارات بن جاتا ہے۔ پھر اسے راتوں رات چھوڑ دیا گیا، مزید خشک ہونے کے لیے درجہ حرارت کو 120 ڈگری پر کنٹرول کیا گیا، اور آخر کار اسے 2 گھنٹے کے لیے 350 ڈگری پر کیلسائن کیا گیا تاکہ ٹنگسٹن کاربائیڈ کا پیش خیمہ بن سکے۔ ویکیوم حالات میں، درجہ حرارت کو 1000 ~ 1300 ڈگری پر کنٹرول کیا جاتا ہے تاکہ ایک جہتی ٹنگسٹن کاربائیڈ نانو اسٹرکچر مواد حاصل کرنے کے لیے پیشگی پر کارروائی کی جا سکے۔

7. ٹھوس مرحلے کا طریقہ

(1) Supercritical CO2 heat treatment method: Put 1.0g tungsten powder (purity 99%, average diameter 2μm), 2.3g metallic sodium (purity 98%), and 10.0g dry ice (purity>99 فیصد) بالترتیب آٹوکلیو میں۔ پھر سیل شدہ آٹوکلیو کو حرارتی بھٹی میں ڈالیں، درجہ حرارت کو 10 ڈگری/منٹ کی شرح سے 600 ڈگری تک بڑھائیں، اور پھر درجہ حرارت کو 20 گھنٹے تک برقرار رکھیں، پھر آٹوکلیو کو کمرے کے درجہ حرارت پر ٹھنڈا کریں سیاہ ٹھوس مصنوعہ، اور سیاہ ٹھوس مصنوع کو پتلا ہائیڈروکلورک ایسڈ سوڈیم کاربونیٹ کے ساتھ علاج کریں، اور پھر NaOH محلول حاصل کرنے کے لیے گرمی سے علاج کیا جائے، اور آخر کار نمونے کو کشید پانی سے دھویا جائے اور 0.2 جی حاصل کرنے کے لیے 2 گھنٹے کے لیے 80 ڈگری پر خشک کیا جائے۔ مصنوعات

(2) دہن کا طریقہ: خام مال بلیو ٹنگسٹن، سوڈیم ایزائیڈ اور کاربن بلیک کو مکس کریں۔ ری ایکٹنٹس کو سیرامک ​​مارٹر میں یکساں طور پر گرا دیا گیا اور پھر سٹینلیس سٹیل کے سلنڈر میں دبایا گیا۔ اسٹیل پلیٹ سلنڈر کا قطر 50 ملی میٹر ہے، دیوار کی موٹائی 1 ملی میٹر ہے، اور اونچائی 60 ملی میٹر ہے۔ رد عمل کی گیند کا وزن تقریباً 150 ~ 170 گرام ہے۔ دہن ردعمل لیبارٹری عام طور پر 2.5MPa argon کے دباؤ کے تحت کیا جاتا ہے. رد عمل کی گیند کو ری ایکٹنٹ میں ڈالیں، اور پھر دہن کے رد عمل کو انجام دینے کے لیے گیند کے اوپری کور پر Ni-Cr دھاتی تار کو آگ لگائیں۔

(3) سپرے گرمی کی تبدیلی کا طریقہ: درجہ حرارت 250-350 ڈگری، ہائی پریشر 25-3.5MPa الٹرا اسپیڈ ایئر سپرے گرمی کی تبدیلی کا طریقہ استعمال کرتے ہوئے، پہلے نینو اسکیل WO3 آکسائیڈ پاؤڈر بنائیں، اور اسے کم کریں۔ WO2.9 بلیو ٹنگسٹن کو ہائیڈروجن کے ساتھ 420-500 ڈگری پاؤڈر پر، اور پھر بلیو ٹنگسٹن پارٹیکلز کو مزید کچلنے کے لیے الٹرا ہائی اسپیڈ انٹرلیئر شیئرنگ کولہو کا استعمال کریں، اور ہائی اسپیڈ ہائیڈرو سائکلون کلاسیفائر کے ذریعے پارٹیکل سائز کی درجہ بندی کریں۔ ، اور نیلے رنگ کے ٹنگسٹن کے بڑے ذرات کو حل کرنے اور الگ کرنے کے لیے نینو بلیو ٹنگسٹن پارٹیکل سلری کو مسلسل سینٹری فیوج کے ساتھ الگ کریں، پاؤڈر مونڈنا اور کرشنگ جاری رکھنے کے لیے الٹرا ہائی اسپیڈ انٹرلیئر شیئرنگ مشین پر واپس آجاتا ہے۔ بلیو ٹنگسٹن شیئرنگ اور کرشنگ کے عمل کے دوران، نینو بلیو ٹنگسٹن کے ذرات کو ڈھانپنے کے لیے ایک فینولک رال ریلیز ایجنٹ شامل کیا جاتا ہے، اور H2 کو دونوں سروں میں کھلایا جاتا ہے، اور ریڈکشن فرنس کو پمپ کیا جاتا ہے اور درمیان میں ٹنگسٹن پاؤڈر کو اوسط کے ساتھ بحال کیا جاتا ہے۔ ذرات کا سائز 700-740 ڈگری پر 80nm سے کم یا اس کے برابر، پھر نینو اسکیل ٹنگسٹن پاؤڈر کو نینو کاربن بلیک پاؤڈر کے ساتھ ملائیں، فینولک رال ریلیز ایجنٹ شامل کریں، اور ایک انتہائی تیز رفتار انٹرلیئر شیئرنگ مشین میں مکس کریں۔ کاربنائزڈ میٹریل سلوری بنائیں، سنٹر فیوگلی طور پر خشک ہونے کے بعد، کم درجہ حرارت 980-1000 ڈگری پر کاربونائز کیا جاتا ہے، بھٹی سے نکلنے کے بعد، برجنگ ایگریگیٹس کو تیز رفتار انٹرلیئر شیئرنگ مشین کے ذریعے توڑا جاتا ہے، اور پھر ہائیڈرو سائکلون کی درجہ بندی کی جاتی ہے۔ ، مسلسل سینٹری فیوگل سیڈیمینٹیشن، الکحل کی سینٹری فیوگل علیحدگی، خشک کرنے، اور پاور فریکوئنسی ایئر فلو وائبریشن چھلنی، 15μm چھلنی کے ذریعے، 90nm سے کم یا اس کے برابر کے اوسط ذرہ سائز کے ساتھ WC پاؤڈر میں بنایا جا سکتا ہے، اور ذرہ کی شکل تقریباً کروی ہے۔ .

(4) اتپریرک طریقہ: zeolite-HX، -NaX، نمونہ KX اور WO3 کے نمونے کو He (99.99 فیصد) ماحول میں 2 گھنٹے کے لیے 200 ڈگری پر گرم کریں، پھر CO (99.99 فیصد) 100mL/min اور He (99.99 فیصد) استعمال کریں۔ نمونے کے ساتھ تخفیف کاربنائزیشن رد عمل کے لیے 300 ~ 750 ڈگری پر 20mL/ منٹ۔ اس طرح، CO اور WO3 کم درجہ حرارت پر WC پیدا کر سکتے ہیں۔

(5) براہ راست کمی کاربنائزیشن کا طریقہ: کم کرنے والی فضا میں کاربنائزیشن کو براہ راست کم کرنے کے لیے WO3 پاؤڈر اور کاربن پاؤڈر کا استعمال کریں۔ رد عمل ایلومینا ایمبیڈنگ ڈیوائس میں کیا گیا تھا۔

8. تھرمل سڑن کا طریقہ:

یہ ایک نسبتاً آسان طریقہ ہے جس کے لیے کسی مخصوص سرفیکٹنٹ میں پیشگی تیار کرنے کے لیے کسی ٹیمپلیٹ کی ضرورت نہیں ہوتی ہے، اور پھر ایک جہتی نانو میٹریل حاصل کرنے کے لیے اسے گلنے کے لیے مناسب درجہ حرارت پر بھونیں۔ مثال کے طور پر: PW (H3PW12O40) آبی محلول اور CTAB (C13H33N (CH3) 3Br) پانی کے محلول کو ملائیں تاکہ سفید پرسیپیٹیٹ [C21.95H41.19N1.33] 3PW12O40 حاصل کریں۔ WC nanorods اور WC nanosheets کو حاصل کرنے کے لیے 1000 ڈگری پر 10 گھنٹے کے لیے براہ راست تھرمل طور پر گل جاتا تھا۔

9. میگنیٹران سپٹرنگ کا طریقہ:

ایک ایسا طریقہ جس میں ایک کیریئر گیس ایک پلازما کے طور پر پرجوش ہوتی ہے جو ایک سبسٹریٹ پر ایک مخصوص نانو اسٹرکچر کو بڑھانے کے ہدف پر بمباری کرتی ہے۔ مثال کے طور پر، Si(110) سبسٹریٹ پر میگنیٹران اسپٹرنگ کے ذریعے جمع کی گئی WCX فلم کو W2C نانوائرز حاصل کرنے کے لیے ہیٹ ٹریٹمنٹ کا نشانہ بنایا جاتا ہے۔

دھماکہ خیز حرارتی طریقہ: بہت کم وقت میں ری ایکٹنٹس کو کم درجہ حرارت سے اعلی درجہ حرارت تک بڑھانے کے لئے حرارتی شرح کو کنٹرول کرکے نانو اسٹرکچر حاصل کرنے کا ایک خاص طریقہ۔ مثال کے طور پر: گریفائٹ اور ٹنگسٹن پاؤڈر کے ملے جلے پاؤڈر کو تابکاری کی بھٹی میں بہت تیز حرارتی شرح پر (کمرے کے درجہ حرارت سے ایک سیکنڈ میں 1900 ڈگری تک) گرم کرنے کے لیے کنٹرول کریں اور 30 ​​منٹ تک رکھیں، اور آخر میں کمرے کے درجہ حرارت پر ٹھنڈا کریں۔

میٹل انجکشن مولڈنگ کا عمل

پتہ لگانے کے نظام